商业上广泛应用的频谱干涉仪通常具有在非接触条件下对表面区域进行测量的优势，由提取的相和干涉信号的位置进行最大限度的对比可以看出，干涉仪是能够以亚纳米精度来测量不透明的单一材料或相同一致表面的，由于探测器的所有象素反射相位的移动和光程差的偏移两者之前的对比高度是常量，所以这是可能的，这些常量对高度的偏移保持不变作出贡献，使其在测量表面形貌时不受影响。 对于不均匀的测试表面，例如，对一个电路图形的硅片进行CMP加工处理，反射相位的移动和光程差的偏移亮点的对比变化以图像位置与表面特性空间变化的结果主是一样的，而一个给定的干涉信号之内的对比记录毫无必要符合物体表面边界，结果，大家熟知的白光干涉测量技术是不能正确测量这些测试表面。
白光干涉测量仪在该领域未正式服役前介绍其固有的内在优势及使用方法，因为它扩展了自己的轮廓不均匀测试表面的实际应用能力。这种非接触方法能够适应高生产率和纳米精度对带有电路图形硅片的测量，这意味着它是研制开发和生产环境中CMP加工工艺过程匹配良好的监控器。在新的生产中具有适应大生产能力的新计量学仪器工具NamoXam。
2 、原理
在白光干涉仪探测器图像象素中时间强度分布或干涉信号可表达为：
照明光谱功率强度Rg（k）包括光源的光谱分布状态，摄像头的光谱响应和干涉仪的光学特性，为了精确地描述来自干涉显微镜的时间强度分布状态，Rg（k）必须校准。
对一个测量表面的合成反射系数是由菲涅耳公式给出；
