今天小编要和大家分享的是投射式电容屏结构材料 投射式电容屏扫描方式,接下来我将从投射式电容屏的结构材料,投射式电容屏的扫描方式,投射式电容屏的开发难点,投射式电容屏的应用,这几个方面来介绍。

投射式电容屏结构材料 投射式电容屏扫描方式

投射式电容屏是采用投射电容触控技术的屏幕,触摸屏面板能在手指触碰到时检测到位置电容的变化从而计算出手指所在,进行多点触控操作。投射式电容屏在日常生活中的常见应用有手机、mp4、数码相机等。

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投射式电容屏的结构材料

(1)表层玻璃与双面ITO玻璃均为强化玻璃,其中表层为非导电类的玻璃。

(2)表层玻璃与双面ITO玻璃之间的光学透明胶即为我们通常所说的OCA胶。

投射式电容屏的扫描方式

投射式电容方案根据其扫描方式一般分为自电容和互电容两种:

所谓的自容通常是指扫描电极与地构成的电容。在玻璃表面有用ITO(一种透明的导电材料)制成的横向与纵向的扫描电极,这些电极和地之间就构成一个电容的两极。当用手或触摸笔触摸的时候就会并联一个电容到电路中去,从而使在该条扫描线上的总体的电容量有所改变。在扫描的时候,控制IC依次扫描纵向和横向电极,并根据扫描前后的电容变化来确定触摸点的坐标位置。自容式扫描的优势是扫描速度快,扫描完一个扫描周期只需要扫描X+Y(X和Y分别是X轴和Y轴的扫描电极数量)根。其缺点是无法识别鬼点,不能做到真正的RealTouch。

投射式电容屏的开发难点

1、芯片技术:目前主流的是CYpRESS方案单面棱形结构的pATTERN电极。

2、触控面板技术:需要进行多次镀膜、光刻和蚀刻,工艺相当复杂,且良率难以提高,还有许多工艺细节需要去攻关和优化。

3、开发周期:同种芯片,不同的触控电极设计都会影响到最终的触控效果,灵敏度、准确率、抗干扰等。因此需要进行不断的优化和选材,如ITO方块电阻的选择,线宽线距设计,回路电阻的控制等,开发周期相当的长

4、开发成本高:由于需要进行反复的调试来进行最佳参数的选取,这个过程不仅长,而且成本会非常之高,常规的设计,光罩就得三块,按1.5万每张计算,如设计上稍有更改就得重新设计光罩。刻胶、影液、洗液、璃基材、光显清玻SpUTTER都非常之贵,动力成本也相当高。

5、人才难寻:投射式电容屏涉及到芯片技术和触控面板技术,懂芯片不懂触控面板流程,设计时不能客观地考虑到制程上的影响,全理论的设计是行不通的。懂流程的则不懂芯片技术,预估不到制程上的变异会给驱动带来怎样的影响,潜在的失效会造成性能不稳,而又无法理解其发生所在。所以需要建立一个完整的团队,芯片技术的、面板前制程技术的、后制程贴合的各工段相关的技术团队才能加快整个开发进度,缺一不可,除非是全才了。

投射式电容屏的应用

投射式电容屏广泛应用于我们日常生活各个领域,如手机、媒体播放器、导航系统、数码相机、数码相机、、电器控制、医疗设备等等.

关于投射式电容屏,电子元器件资料就介绍完了,您有什么想法可以联系小编。