我们先了解下它们各自的概念和组成及其分类
激光晶体
激光晶体可以是外界的能量通过光学谐振腔体的转化为时间上和空间上相干的具有高度平行性和单色性的激光晶体原材料。是晶体激光器的工作物质。
激光晶体的组成
激光晶体是由发光中心和基质晶体所组成的。发光中心一般是由激活离子所构成的，激活离子的部分离子取代了基质晶体中阳离子从而形成掺杂型激光晶体。当基质晶体组中部分离子被激活离子所取代时，则构成自激活激光晶体。
激光晶体的分类
1、工业加工用的高平均功率密度激光晶体。
2、可调谐激光晶体。
3、半导体激光器和小型激光器用激光晶体。
4、新波长激光晶体。
光刻机
光刻机是利用模版去除晶圆表面所覆盖的一层保护膜，将电路刻制在晶圆上的一种仪器。现在高端的刻光机可以分为两种。一种是步进投影刻光机，另一种是扫描投影光刻机两种，通常它们的分辨率在七纳米至几微米之间。同时刻光机对分辨率、对准精度、曝光方式和曝光光源波长有着较高的要求。
光刻机的组成
光刻机最核心的组成部件是紫外光源。对紫外光源的要求是波长必须在合适的范围内，一般而言波长越短，就是表示“刀”越锋利。也需要足够大的能量。曝光的能量必须均匀的分布在晶圆上。
光刻机的分类
1、接触式曝光：就是直接的在晶圆上刻录。
2、接近是曝光：就是距离晶圆有0~200μm的距离，可以很好的保护晶圆。
3、投影式曝光：使用光学系统聚集光来实现刻录。
总结
从上面个人觉得激光晶体是刻光机的原材料。刻光机可以通过激光晶体进行刻录工作。
