在制程存在变化的情况下，Archer 750套刻量测系统可以提供准确可靠的套刻误差测量结果，同时可以实现的产能也是仅在基于散射测量的套刻系统上才能看到的水平。这一突破性的系统可在各个层之间提供准确，快速的反馈，从而帮助光刻机在线识别制程偏差并改善整体图案完整性，从而更快地提高良率，更稳定地生产高级逻辑，DRAM和3D NAND器件。
SpectraShape 11k CD和尺寸形状量测系统是将灵敏度和生产率进行了前所未有的结合，可容纳以前无法涉及材料、结构和晶片形状。SpectraShape 11k具有以高精度和高速度测量高级逻辑、DRAM和3D NAND器件功能的能力，可快速识别制程问题并在生产过程中进行严格的制程监控。
全新量测系统及可实现更高性能的技术突破的更多信息，请参见产品组合信息页面。
众多的Archer 750和SpectraShape 11k系统均已通过应用鉴定，并已在全球领先的IC制造商中投入使用，在应用于生产创新电子设备的许多制程步骤中，它们提供的关键反馈。 Archer 750和SpectraShape 11k与KLA的5D Analyzer 高级数据分析系统集成在一起，该系统支持实时制程控制及工程监控与分析。为了维持芯片制造商所要求的高性能和生产率，Archer 750和SpectraShape 11k量测系统得到了KLA全球综合服务网络的支持。
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