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EDA,IC设计相关技术文章三星Foundry凭借最新工艺帮助客户设计和制造最先进的IC产品
Mentor， a Siemens business 旗下领先的 Calibre nmPlatform 和 Analog FastSPICE （AFS） 定制和模拟/混合信号 （AMS） 电路验证平台现已符合三星Foundry最新的5/4 nm FinFET工艺技术要求，客户可以使用最新的解决方案为其先进的IC 设计tapeouts进行验证和sign-off。
三星5nm FinFET 工艺在功耗、性能和面积 （PPA） 方面表现优异，其本身具备的增强功能，结合更加精细的5nm 几何尺寸，能够获得比前几代工艺节点更为出色的性能提升。
三星电子设计支持团队副总裁 Jongwook Kye 表示：“三星与 Mentor 的合作由来已久，我们的共同客户能够以此充分使用Calibre 解决方案的各种功能。现在，Calibre 和 AFS 都已通过最新的三星Foundry的工艺认证，双方的专业知识再次结合，帮助设计人员快速开发和验证创新型 IC，以应对各种高速增长的市场和应用需求。”
除 Calibre nmDRC 之外，同时通过三星Foundry的最新工艺认证的Mentor 工具还包括：
• Calibre xACT - 该工具能够解决与先进纳米设计相关的技术挑战，包括多重曝光、FinFET、局部互连、高复杂性和更严苛的约束条件。其独特的混合引擎提供了场求解器的高精度，这对于FinFET 这类的精细3D 结构而言至关重要，此外Calibre xACT还提供快速的吞吐能力，可迅速完成全芯片设计。
• Calibre YieldEnhancer - 具备 SmartFill 和ECO Fill 功能，客户可以控制设计平面度，并减少多次设计迭代的周转时间。Calibre YieldEnhancer 还可以通过自动 PowerVia 流程减少 IR 压降，从而帮助客户提升设计的可靠性。三星与 Mentor 合作定制了该工作流程，为其领先的制程技术提供最高数量的过孔加插。
• Calibre PERC - 该工具采用独特集成的方法对物理版图和网表进行分析，进而将复杂的可靠性验证检查自动化。支持5/4nm 工艺的三星Foundry Calibre PERC 设计工具套件能够提供额外的验证检查功能，帮助客户应对与静电放电和闩锁效应可靠性相关的挑战。
