电容的S参数测量。

我重新设计了SLOT校准件及测试板,并测试了公司80%以上电容的S参数模型

S电容参数转为多级SPICE模型

陶瓷电容的RLC是通过ADS拟合出来的(这个方法我在部门的数据库中归了档);钽电容则是通过多级RLC拟合出来,如下图2所示。这个是由王瑜使用MATLAB完成的。

把所有的电容的SPICE模型按一定的格式组合成DML文件

这个由我写程序完成。构造这个文件按CADENCE给的HELP文件是完成不了的,因我无意中发现它的一个BUG,即RLC元件值后面的单位必须要有一个空格,这个BUG对整个仿真流程至关重要。DML文件可以加密,但是PI运行后生成的网表会把电容的多级子电路显示出来,这也是一个BUG。

按CODE进行自动赋模型

这个方法由我发明并写程序完成

模型的S1P,S2P转换,输出的Z参数转换

这个由张胜利,贾俊等写公式及推导,我写程序一次性完成。

把上面的技术点处理完成后,PI仿真就变白痴化了,完全不会的人也可以在半天或一天内输出需要的PI仿真报告。

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基于华为技术的电源完整性PI仿真设计

图2多级RLC拟合钽电容电路

PI仿真流程建成后公司PI仿真方面在业界当时应是一流水平,且测试与仿真拟合得很好(我们只测到3Ghz)。

SIWAVE1.0在我们使用SQPI流程完成后1年才出来,当时由张胜利对这个软件进行了评估,由于我没有对它写辅助程序,有些算法还不成熟,SIWAVE1.0还是不如我们的流程好用。到了SIWAVE2.0后它的PI仿真方面才完善,不过SIWAVE2.0的自动赋模型程序也是我帮助李宝龙修改完成的。后来的SIGRITY PI自动赋模型我也写好了程序(直接对SPD文件进行处理)。在自动赋模型方面我觉得自已很有天赋。

板级的PI仿真我们认为已经拟合得很好了,现在剩下器件的电流源建模比较困难。TI有牛人写过文档对IC的电流源进行模拟,但他的方法一直没有使我信服,且他还在优化的过程中。

柳树要接管PI组后在芯片级等效电容方面有突破,且方法用在芯片K3V1上并解决了当时的问题。海思后来自己又引进了APACHE软件,用它来生成电流源模型,我离开公司时还未有真正突破性的进展,不知现在的情况怎样了。

由于现在PI软件的多样性及算法的进一步成熟,华为现在板级PI水平和外界应差别不大,但Hisilicon离后端较近,有机会在DIE上对PI有一番作为,这也要看小伙伴们的造化了。

关于怎样算电流源模型的问题,我也一直在思考,希望通过计算出logic的翻转率来评估。我希望在快捷后面开发产品中与FPGA工程师合作,看是否有机会突破。